2018년부터 2020년까지 3년간 배당규모 29조원 육박, 올해 시설 투자 46조원 확대

[컨슈머치 = 김은주 기자] 반도체 호황에 힘입어 또 한 번 역대 최대 분기 실적을 갈아치운 삼성전자가 ‘통 큰’ 주주환원 정책과 대규모 설비 투자를 예고하고 나섰다. 

삼성전자는 31일 이사회를 열고 2018년부터 2020년까지의 주주환원 정책을 발표했다. 구체적으로는 우선 올해 배당규모를 배당을 대폭 확대하기로 했다. 올해 배당규모르 지난해 4조원 수준에서 20% 상향한 4조8,000억 원으로 늘린다는 방침이다.

또한 내년에는 배당 규모를 올해 대비 다시 100% 확대해 9조6,000억 원으로 늘리고, 2019년과 2020년에도 2018년과 동일한 수준을 유지할 예정이다. 이에 따라 2018년부터 2020년까지 3년간 배당규모는 약 29조 원에 육박하게 된다.

이밖에 대규모 M&A로 인한 주주환원 재원 감소를 방지하고 주주환원 규모에 대한 예측 가능성을 높이기 위해 잉여현금흐름을 계산할 때 M&A 금액을 차감하지 않기로 했으며, 잉여현금흐름의 50% 환원을 기존 1년에서 3년 단위로 변경해 적용한다는 계획도 밝혔다.

삼성전자는 3년간 잉여현금흐름의 최소 50%를 주주환원 재원으로 유지하면서 배당을 집행한 후 잔여 재원이 발생할 경우, 추가 배당이나 자사주 매입·소각을 통해 환원할 방침이다.

이상훈 삼성전자 경영지원실 사장은 “삼성전자는 안정적 재무구조를 유지하면서 장기적 성장을 위한 투자와 주주가치 제고를 지속적으로 추구해 왔다"라며 “최근의 호실적이 지속될 수 있도록 차별화된 기술력과 전략적 투자를 통해 회사의 경쟁력과 수익성을 높이고, 주주환원 정책도 병행하면서 주주가치를 제고해 나가도록 최선을 다하겠다"라고 말했다.

같은 날 삼성전자는 대규모 시설투자 계획도 발표했다. 삼성전자 발표 내용에 따르면 올해 전체 시설투자는 약 46.2조원으로 지난해 25.5조원 대비 대폭 증가할 것으로 예상된다. 사업별로는 반도체 29.5조원, 디스플레이 14.1조원 수준이다.

3분기 시설투자는 총 10.4조원이며 반도체에 7.2조원, 디스플레이에 2.7조원이 투자됐다. 3분기 누계로는 32.9조원이 집행됐다.

메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있으며, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다.

디스플레이의 경우는 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행중이다.

삼성전자 관계자는 “4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며, 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이다”이라고 말했다.

한편 삼성전자는 올 3분기 사상 최대 실적 달성했다. 3분기 연결기준 매출액 62조500억원, 영업이익은 14조5300억원을 달성해 지난해 같은 기간보다 각각 29.7%, 179.5% 늘어났다.

이로써 삼성전자는 올해 첫 연간 영업이익 50조 원 달성이 유력해졌다.

31일 오후 1시51분 현재 삼성전자의 주가는 전 거래일 대비 1.92%(5만2,000원) 상승한 275만4,000원에 거래 중이다.

저작권자 © 컨슈머치 무단전재 및 재배포 금지